深圳地球人彩票光电股份有限公司

网站首页 > 新闻动态 > 行业新闻

在LGD和三星产线上的Mask技术是这样的

无标题.jpg

  Display 产线上使用的Mask 为两种: Array 段和CF (TFT-LCD)用的, 以玻璃为基础材料的曝光Photomask; AMOLED 段以金属为基本材料的Shadow Mask (Open Mask & FMM)

  Photomask 主要用于Array 段曝光显影用。Photomask 主体结构为透明基材+遮光材料, 主要用于通过曝光、显影和刻蚀工艺制作高精度的集成电路用。

  常见的基板、遮光材料以及材料特性如Table 1 Table 2 (** 资料来源较老2008, 仅能作为参考 **)

  Table 1 Photomask 分类 (10) (** 资料来源较老2008, 仅能作为参考 **)

分类方法

材料

特点

用途

大类

名称

Pros

Cons

基板

Mask Film

树脂

质量轻

容易大型化

易变形

PWB用光掩膜

Glass Mask

石英玻璃

化学性能稳定

热膨胀率小

价格高

LSI用光掩膜

FPD用大型光掩膜

苏打玻璃

价格便宜

热膨胀系数较大

短波长透射率低

低端光掩膜

低膨胀玻璃

热膨胀系数接近硅

短波长透射率低

LSICopy Mask

遮光膜

Emission

价格便宜

图形形成简单

机械强度弱

分辨能力底

PWB用光掩膜

低端光掩模

Hard Mask

1 Layer

机械强度高

可形成微细图形

&里面反射率高

投影曝光机用光掩膜

2 Layer

里面反射率高

LSI&FPD用光掩膜

3 Layer

膜形成工艺复杂

StepperReticle

See Through

(手动对位时易操作)

微加工性能不如铬

低端硬质光掩膜

氧化铁

硅化钼

Half Tone特性优异

耐化学品性能差

LSI&Half-TomeMask

  Table 2 Photomask 常用透明基板和硬质遮光材料 (** 资料来源较老2008, 仅能作为参考 **)

常用透明基板

硬度遮光材料

石英玻璃(Quartz Glass)

苏打玻璃(Soda-line Glass)

低膨胀玻璃(Low Expansion Glass)

......

铬膜

氧化铁

硅化铝

......

 

Msak Size

228.6mm*228.6mm1220.0mm*1400.0mm

Beam Diameter

0.50μm0.75μm

Substrate

Synthetic Quarts&Soda-Lime Glass.(Sodium Carbonate)

Thickness:3-13mm(t

 

  Binary Mask: 该类型mask 上区域分为全透光区域和不透明区域。

       Half-tone Mask: 除去以上两个区域外, Mask 上还存在半透明区域。通过控制半透明区域的光透过量可以控制下方PR 胶刻蚀后的图案的高度。该Mask 亦被称为Gray-Scale Mask 3D Mask (or GTMmask

 

无标题.jpg

无标题.jpg 

  在FPD 产业中该Mask 基本材料为石英玻璃, 并通过在玻璃上制作金属铬Cr 作为遮光盖(Cr 可采用Sputtering 方式制作)

  在使用时Cr 面与PR 胶接触进行曝光(Mask 间距约10μm)。在Display 生产中, 除去CF 板外, Photomask 用来制作主要用于制作TFT 部分, S/D/G栅和绝缘层等。

  根据DNP 的资料来看, 现有Photomask 可以制作分辨率为14 nm 28 nm 精度的器件。

  TFT CF 的精度不同, 所以对Photomask 的品质规格要求也有差异(Table 4)

  Table 4 普通TFT Mask 要求品质(10) (** 资料来源较老2008, 仅能作为参考 **)

Item

Specification

TFT CF

TFT Array

A

B

Size6 inch

Size6 inch

Mask Size 6*6inch-1100*100mm

CD

Accuracy

±0.35μm

±0.5μm

±0.35μm

±0.15μm

Uniformity

±0.35μm

±0.5μm

±0.35μm

±0.15μm

Pattern Centrality Accuracy

±0.5μm

±0.5μm

±0.5μm

±

Registration

Position

±0.75μm

±0.1μm

±0.5μm

±0.15μm

Total Pitch

±0.75μm

±0.1μm

±0.5μm

±0.15μm

Overlay

±0.75μm

±0.1μm

±0.5μm

±0.15μm

Pellicle Mounting

......

......

±0.5μm

±0.5μm

Defect

Size

3μm over free

3μm over free

3μm over free

3μm over free

Mura

None

None

None

None








  A.     CD 图形尺寸精度

  B.     Pattern Centrality Accuracy 图形居中精度

  C.     Registration 图形位置精度

  D.     Total Pitch TP 图形总长精度

  E.      Overlay 图形套盒精度


Powered by  ©2008-2019